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拉絲、冷墩、光球、熱處理、研磨、精研、拋光、清洗至檢驗、包裝一條龍生產(chǎn)工藝流程,
并以加工半成品至成品球銷售一系列過程。
為什么這些研磨球看起來光可鑒人

咱們?nèi)粘?吹降难心デ蚝芏啾砻娑际前l(fā)亮的,甚而尚有鏡面功效,這都是因為光的鏡面反射作用。

當光散播到物體表面時,便會產(chǎn)生反射。反射又分為鏡面反射、漫反射和目標反射。

1、鏡面反射:假如物體表面平滑,平行光線射到平滑表面上時反射光線也是平行的,這種反射叫做鏡面反射。

2、漫反射:若物體表面粗糙,平行光線射到崎嶇不平的表面上,反射光線射向各個目標,這種反射叫做漫反射。

3、目標反射:介于漫反射和鏡面反射之間反射稱為目標反射,也稱非朗伯反射,其呈現(xiàn)為各向都有反射,且各向反射強度不均一。

85氧化鋁研磨球

由上可知,決策研磨球表面是否有光線的因素是球面平坦度;球面越平滑,鏡面功效越好;球面越粗糙,鏡面功效越差。而影響球面平坦度的因素有很多,重點分為:原料內(nèi)部結(jié)構和球面外加工水準。當中,球面外加工對照簡易理解,譬如剛才燒結(jié)之后的研磨球,球面都是啞光的,而始末拋光處理后球面才可能會有鏡面功效。原料內(nèi)部結(jié)構包含:氣孔、晶粒尺寸、液相當,它們對球面平坦度的影響辭別如下:

1、氣孔

由于現(xiàn)在燒結(jié)后的研磨球通常都有很高的致密度,燒結(jié)形成的氣孔很少,所以咱們這里說的氣孔平常多指由于成型等緣故形成的大缺點。

譬如說,滾球用粉料有氣流粉、噴干粉、造粒粉等等,它們本質(zhì)都是由多數(shù)單個晶粒構成的假顆粒??墒怯捎谥品酃に嚥幌嗤哿系念w粒強度不相同,在運用中就會出現(xiàn)一些假顆粒并不能完全壓碎的狀況,形成燒結(jié)過程中晶粒不能完全靠近,形成功了大氣孔等缺點。

2、晶粒尺寸

當原料品種差異、各廠家對原料的研磨水準差異和配方和燒成工藝差異,便會形成燒結(jié)后的研磨球內(nèi)部晶粒大小差異。晶粒越細,球面越平坦;晶粒越粗,球面越不平坦,就像用石塊鋪路和用沙子鋪路相同。

氧化鋯研磨球晶粒大多在0.3um-0.5um,氧化鋁晶粒大多在1um-5um,氧化鋯晶粒更細,球面平坦度更高,所以氧化鋯球面比氧化鋁球面更亮。

晶粒大?。孩?gt;②>③

3、液相

以氧化鋁陶瓷為例,通常制作中為了降低陶瓷的燒結(jié)溫度,會增加一些外加劑。當中一部分即是可以在高鋁瓷中生成液相的外加劑,例如高嶺土、硼鎂石、硅粉等,它們能與其余外加劑共同生成二元、三元或更復雜的低熔點共融物。加入適量的外加劑后,一方面不妨降低陶瓷的燒結(jié)溫度,使晶粒渺小;另一方面形成的液相也會像鋪路面的瀝青相同,使球面平坦度更高,球面天然也就更亮了。



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